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光学膜厚量测仪 (Thin Film Analyzer )

技术原理

光学膜厚量测仪主要是使用垂直的光源入射样品,侦测反射光谱的非接触技术,不需要任何样本准备就可以测量厚度,适用于半透膜样品,只需一秒钟分析从薄膜反射的光就可确定薄膜厚度,光学膜厚量测仪还可以测量多层薄膜的厚度。

 

 

 

 

 

分析应用

  1. 薄膜厚度量测
  2. 多层膜厚量测
  3. 可量测介电层、氧化层、金属膜等,有机、无机膜厚均可量测
  4. 最小量测尺寸 10um
  5. 厚度范围:20nm~20um

 

 

 

机台种类

图-1  Filmetrics F40

 

 

 

 

应用实例

图-2 单层薄膜厚度量测 (SiO2:316.38nm)

 

 

图-3 多层薄膜厚度量测 (Si:614.2nm / W:54.63nm / Si3N4:122.4nm)

 

 

 

 

常见问题

Q1. 光学膜厚量测仪样品分析尺寸大小限制 ?

A. 样品载台最大可以放置8吋晶圆不须裂片即可分析,最小可量测约0.5cm左右的样品。

 

Q2. 光学膜厚量测仪准确性高吗 ?

A. 光学膜厚量测仪是利用光源反射的讯号来进行fitting比对,若Goodness of fit数值越接近1时,量测厚度越接近实际厚度;若可提供愈小的厚度范围,则fitting准确率愈高。

 

Q3. 光学膜厚量测仪可以量测多层膜吗 ?

A. 可以,只要您提供样品各层薄膜的结构与概略厚度,搭配资料库就可以为您进行分析。

 

Q4. 光学膜厚量测仪是破坏性分析吗 ?

A. 光学膜厚量测仪属于光学非接触式量测,并不会破坏样品表面的结构。

 

Q5. 光学膜厚量测仪可侦测厚度的极限为何 ?

A. 最薄可以量测到20nm,若小于此厚度建议可搭配XRR或TEM来进行分析。

 

 

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