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CSRレポート

Thin Film Analyzer

方式

The thin film analyzer is a non-contact analysis technology that uses a light source to vertically shine onto the sample and detect the reflection spectra.

薄膜分析装置は、光源からの光をサンプルに垂直に当て、反射スペクトルを検出する非接触分析技術です。厚さ測定のための前処理は不要で、この技術は半透明の試料にも適用できます。薄膜の厚さは、反射光を分析することで決定されます。この技術は多層薄膜の厚さを測定することもできます。


 
 

 

保有装置

Filmetrics F40

 

 

 

応用

  1. 薄膜の膜厚測定
  2. 多層薄膜の膜厚測定
  3. 誘電体、酸化物、金属、有機、無機薄膜の膜厚測定にも応用可能
  4. 最小測定寸法:10um
  5. 測定範囲:20nm20um

 


単一薄膜の膜厚測定,SiO2: 316.38 nm


多層薄膜の膜厚測定,Si: 614.2 nm/W: 54.63 nm/Si3N4: 122.4 nm

 

 

担当者

名古屋ラボ|営業部

長谷川文哉

: 052-705-1688 ext:1

: 080-5322-2380

: sales_nagoya@ma-tek.com