表面分析(元素成分分析)

光學膜厚量測儀 (Thin Film Analyzer )

 

 
光學膜厚量測儀主要是使用垂直的光源入射樣品,偵測反射光譜的非接觸技術,不需要任何樣本準備就可以測量厚度,適用於半透膜樣品,只需一秒鐘分析從薄膜反射的光就可確定薄膜厚度,光學膜厚量測儀還可以測量多層薄膜的厚度。

 

  • 1.薄膜厚度量測
  • 2.多層膜厚量測
  • 3.可量測介電層、氧化層、金屬膜等,有機、無機膜厚均可量測
  • 4.最小量測尺寸 10um
  • 5.厚度範圍: 20nm~20um

 

Filmetrics F40

 

圖-1 單層薄膜厚度量測 (SiO2: 316.38nm)

單層薄膜厚度量測
圖-2 多層薄膜厚度量測 (Si: 614.2nm/W: 54.63nm/Si3N4: 122.4nm)
多層薄膜厚度量測

 

 

Q1. 光學膜厚量測儀樣品分析尺寸大小限制 ?

A.  樣品載台最大可以放置8吋晶圓不須裂片即可分析,最小可量測約0.5cm左右的樣品。

Q2. 光學膜厚量測儀準確性高嗎 ?

A.  光學膜厚量測儀是利用光源反射的訊號來進行fitting比對,若Goodness of fit數值越接近1時,量測厚度越接近實際厚度;若可提供愈小的厚度範圍,則fitting準確率愈高。

Q3. 光學膜厚量測儀可以量測多層膜嗎 ?

A.  可以,只要您提供樣品各層薄膜的結構與概略厚度,搭配資料庫就可以為您進行分析。

Q4. 光學膜厚量測儀是破壞性分析嗎 ?

A.  光學膜厚量測儀屬於光學非接觸式量測,並不會破壞樣品表面的結構。

Q5. 光學膜厚量測儀可偵測厚度的極限為何 ?

A.  最薄可以量測到20nm,若小於此厚度建議可搭配XRR或TEM來進行分析。

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